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          振奮人心!中國科技界迎來三大突破,這將意味著什么?

          2021-04-02 16:14:06 | 來源:百度 | 參與: 0 | 作者:時評

            

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            圖為光刻機

            無法制造高精端邏輯、存儲芯片,一直都是中國半導體行業長期難以解決的痛點,而美國也是抓住了這個短板,聯合盟友對中國的芯片產業進行打壓,試圖將正在成長的半導體扼殺在搖籃之中。

            不過,無論是“兩彈一星”,還是航空航天,中國都是在國外技術重重封鎖的狀態下,獨立自主地完成了研究成果,同樣的是,中國最近科技界迎來了三大突破,增強國人信心有著特殊意義。

            第一大突破,EUV光源的重大突破,前不久清華大學科研團隊發表了一篇有關紫外光源的研究成果,報告顯示他們利用穩態微聚束,這種新型粒子進行了原理驗證實驗,更為確切地說,研究團隊,利用波長為1064納米的激光,操控電子束繞環形成精密的微型結構。

            荷蘭的阿斯麥公司目前是全世界唯一能夠生產極紫外光刻機的廠商,其中它里面需要的是高功率的光源,而清華大學團隊驗證微聚束形成實驗,給大功率EUV光源提供了一種新的思路,也為中國獨立研發光刻機提供理論基礎。

            第二大突破是,華為鴻蒙系統2.0將會在今年四月份與大家見面,上個月華為的MateX2手機發布會上,CEO余承東表示,華為將會對鴻蒙系統進行升級,此前的1.0版本主要是應用在智慧屏上,而這次升級后的2.0版本將會直接裝入華為MateX2折疊屏手機。

            鴻蒙系統如果能夠成功,無疑是給中國科技界注入了一劑強心針,作為一款國產自主研發的操作系統,國產手機未來能夠擺脫安卓、IOS系統的依賴,據了解除了首批華為MateX2手機將搭載鴻蒙2.0系統之外,EMUI 11.0、MagicUI4.0等手機系統版本的華為、榮耀手機也都將在今年內,陸續完成鴻蒙系統的升級,可以說它的未來前景十分巨大。

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